光刻掩膜版，简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。

光学掩模板是在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精 确定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC(集成电路)、FPD(平板显示器)、PCB(印刷电路板)、MEMS(微机电系统)等。光掩模板主要由玻璃基板与遮光膜两部分组成，其中玻璃基板成本占整体材料成本的90%。光掩模玻璃基板是指用于制作光掩模板的空白玻璃，也被称作制版玻璃。

集成电路是现代化工业的“大脑”，是国家科技战略的基础和工业发展的纽带，集成电路产业发展水平从一定程度上反映了国家创新制造水平。目前，国内电子信息产业持续高速发展，提升了我国集成电路行业的景气度，近年来，在国家政策的支持下，企业不断加大对集成电路的研发投入，中国集成电路产量不断扩大，2021年1-11月中国集成电路产量3295.1亿块，同比增长37.1%。

二、需求量

近年来，随着中国集成电路、平板显示器等行业的快速发展，光刻掩膜版需求量不断增长，带动原材料光掩模玻璃基板需求量也逐年增加，2020年中国光掩模玻璃基板需求量为10.0万平方米，2020年增加至11.5万平方米。发展初期，我国光掩模玻璃基板主要依赖进口，2010年以来，我国加大了对光掩模玻璃基板研发和产业化进程，我国企业不再纯粹依赖国外进口。

与光掩模玻璃基板有关标准

资料来源：国家市场监督管理总局、智研咨询整理

目前被用来制作光掩模玻璃基板基本材料包括合成石英、硼硅玻璃和苏打玻璃等，其中合成石英化学性质最为稳定，具有高硬度、低膨胀系数和透光性强等优势，被广泛运用到具有较高精度要求的产品生产中，在光掩模玻璃基板需求量材料分布占比中，石英材料占比不断提升，由2015年的27%提升至2020年的42%。

从应用领域分布来看，IC、FPD为光掩模玻璃基板主要应用领域，2020年合计占比超总需求量的95%，其中IC光掩模玻璃基板需求量约为5.6万平方米，占比49%；FPD光掩模玻璃基板需求量约为5.3万平方米，占比46.5%。

随着半导体集成电路(IC)、显示面板(FPD)和PCB等产业重心向中国倾斜和转移，带动我国光掩模板行业等迅速发展，作为光掩模板上游的光掩模玻璃基板产业必受到强有力的拉动，尤其是光掩模石英玻璃基板的发展将进一步加快。